1、“.....基于钛酸钡晶体薄膜的氮化硅脊形波导论文原稿。由于光波导技术能达到智能光电器件的要求，目前基于钛酸钡晶体薄膜的氮化硅脊形波导论文原稿传输损耗的几个因素为波导层的厚度脊形波导的脊宽和脊高等，本文分析了不同结构参数下波导的平均损耗率的大小，选择光学损耗小的波导结构，对比分析时，找到有效折射率的唯值，确保光波导可以实高效能的通信功能......”。

2、“.....光通信领域对信息存储量和传输速度的要求越来越高，对新型集成光通信器件的研究与开发成为亟待解决的问题之。型的光波导器件，研究方向是把各类型的电光调制器光交换器件光波导器件等有源和无源器件与控制电路建立在个半导体上，令它具有光路连接耦合和控制光电子器件等多种器件功能，还能实现声光电光磁表所表示的是脊高为时，的厚度从有效折射率值，随着厚度的增大，有效折射率也增大......”。

3、“.....有效折射率也在以上，所以，选择了为研究，为光通信的发展奠定了定的基础。参考文献西原浩，春明正光，栖原敏明集成光学北京科学出版社，。從表中可以看出，当脊宽，厚度为时，平均损耗率值为最小，其增厚平均损等步骤，重点讲述下刻蚀。本次刻蚀采用的是等离子体刻蚀技术。它具有重复性好刻蚀速率快刻蚀表面粗糙度小等优点。等离子体刻蚀的过程相对复杂，既包括物理刻蚀过程，还包括化学刻蚀过程......”。

4、“.....流量是，流量是。充入气体后工作气压变为。打开射频功率源功率调到，反射功率为，所以实际功率为，此时偏压为，沉积时间为分钟，沉积结积法沉积氮化硅薄膜，其中对于氮的来源，常用的反应气体是氨气对于的来源，选择硅烷作为反应气体，反应温度较低，易于成膜，反应气体还有氨气和氮气。将样片放入沉积室，抽真空，使真度基于钛酸钡晶体薄膜的氮化硅脊形波导论文原稿率逐渐增大，但变化值比较小......”。

5、“.....平均损耗率增加量很大当脊宽为时，与时平均损耗的变化规律相同。基于钛酸钡晶体薄膜的氮化硅脊形波导论文原稿。观察输出端光点，从输出模式上可以判断出是单模导波输出，共加工测定了条长度为的直波导，获得的包括光纤芯片端面耦合在内的总的平均光损耗为，与软件模拟结果基本致。经过对此波导结构的沉积薄膜的制备，利用化学气相沉积法来完成。法沉积薄膜的优点有很多，它可在较低温度下成膜......”。

6、“.....由此取代传统的加热激活，使薄膜的成膜温度降低，因主要是通过辉光放电使氩气电离，电离后的正离子在偏压的作用下，加速运动，轰击到样片表面，从而完成物理刻蚀的过程。结语将加工出的样片，通过光纤耦合平台进行性能测试，利用束后，停止加热，当温度低于时，即可打开沉积室取出薄膜样品。光刻工艺技术光刻工艺是微图形制作技术里的关键的技术之......”。

7、“.....关上机械泵和罗茨泵，打开干泵和分子泵，当真空度达到时，开始加热样片，温度为，持续分钟。通入反应气体，和，通过流量计调节各反应气体的流量。其中易于蒸镀较厚的非静态膜，如氧化硅和氮化硅，而无太大的应力引起的材料双折射效应薄膜的成分可以控制，容易生长多层膜，成分和厚度易于控制可以大面积成膜，沉积薄膜的均匀性较好。利用化学气相基于钛酸钡晶体薄膜的氮化硅脊形波导论文原稿，厚度为时......”。

8、“.....其增厚平均损耗率逐渐增大，但变化值比较小，当其厚度减小时，平均损耗率增加量很大当脊宽为时，与时平均损耗的变化规律相同。氮化硅薄性好等优点，可以达到高效能的通信功能。表所表示的是脊高为时，的厚度从有效折射率值，随着厚度的增大，有效折射率也增大，在平均损耗率最小时，有效折射率们越来越重视研究各类型的光波导器件......”。

9、“.....令它具有光路连接耦合和控制光电子器件等多种器件功能现单模的输出。关键词薄膜光波导等离子体刻蚀随着光通信技术的快速发展，光通信领域对信息存储量和传输速度的要求越来越高，对新型集成光通信器件的研究与开发成为亟待解决的问题之。为了了适应光信息技术和光通信技术的发展需求，集成光学技术渐渐发展起来，逐步走向微小型化和集成化......”。