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磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及其进展(论文原稿) 磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及其进展(论文原稿)

格式:word 上传:2022-07-26 01:25:50

《磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及其进展(论文原稿)》修改意见稿

1、“.....工作环境极其恶劣,要求泵关键部位的硬度必须要达到以上,并且要求其要承受水流的冲蚀。所以急需要制备种硬度和耐腐蚀性的碳化将会制备更优化的碳化钨薄膜,首先它能够在低温下直接沉积碳化钨晶态硬质薄膜,目前已经得到了广泛的应用......”

2、“.....在定性优良,与基体的结合力要比纯的碳化钨薄膜要高,这种膜已经成功地应用于石油开采过程当中,并且它的寿命要比普通的碳化钨薄膜高出倍磁控溅射法耐磨耐腐蚀性沉积在石油的开采过程当中,工作环境极其恶劣,要求泵关键部位的硬度必须要达到以上,并且要求其要承受水流的冲蚀......”

3、“.....结束语未来磁控溅射法将会制备更优化的碳化钨薄膜,目前溅射技术制备薄膜是种广泛的应用方式。其优势还体现在它对于任何待镀材料都能使其成为实现溅射,而且在进行溅射时机体底部还需要增设夹层,可以实现大规模的生产。正是由于磁控溅射镀膜的多种优势......”

4、“.....尤其是世纪年代后更是得到了迅猛的发展,目前已经在光得厚度均匀的薄膜。由此可见,磁控溅射方法能够较好地制得碳化钨薄膜。磁控溅射方法制备碳化钨薄膜的优势磁控溅射镀膜是物理气相沉积薄膜中的种磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及其进展论文原稿先它能够在低温下直接沉积碳化钨晶态硬质薄膜......”

5、“.....在定程度上拓宽了碳化钨薄膜的应用范射工艺可重复性,厚薄可控制,同时也可以在大面积的物体上获得厚度均匀的薄膜。由此可见,磁控溅射方法能够较好地制得碳化钨薄膜磁控溅射法制备对于任何待镀材料都能使其成为实现溅射,而且在进行溅射时机体底部还需要增设夹层......”

6、“.....其次,它可以在较低的工样所获得的薄膜和机体结合将更好。其次,它可以在较低的工作气压下获得较高的沉积效率,溅射所获得的薄膜程度较高,并且膜的致密度较好。最后,冶金工业等多种行业得到了广泛的应用。与其他方式制备的薄膜相比这种膜有更好地致密性和附着性,所以它比蒸发薄膜以及电镀,更有巨大的优势,因式......”

7、“.....比如能够加大沉积的速度和面积,几乎所有的金属化合物都可以在短时间内快速形成相应的材料薄膜。不仅如此,利用磁控溅射方法气压下获得较高的沉积效率,溅射所获得的薄膜程度较高,并且膜的致密度较好。最后,溅射工艺可重复性,厚薄可控制......”

8、“.....所以它比蒸发薄膜以及电镀,更有巨大的优势,因此目前溅射技术制备薄膜是种广泛的应用方式。其优势还体现在的金属化合物都可以在短时间内快速形成相应的材料薄膜。不仅如此,利用磁控溅射方法还可以实现大规模的生产。正是由于磁控溅射镀膜的多种优势,薄膜......”

9、“.....目前已经得到了广泛的应用,只需在度下就能够制成这种薄膜,在定程度上拓宽了碳化钨薄膜薄膜,随后,就运用了磁控溅射法制备了碳化钨薄膜,其中含有合金耐腐蚀性,这种膜的硬度高达,并且耐腐蚀性优良,与基体的结合力要比纯的度上拓宽了碳化钨薄膜的应用范围。参考文献郑华均......”

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