1、“.....下降比例略有增加图。可以采取折射率测量薄膜密度，它被证明它与氢含量相关。在处折射率值基本保持不变，而这值之间是薄膜竹篙折射率，此时提供是过剩。图。图表氧化钼增长率左轴和折射率右关系比值。渗碳相比之下，速度和质量都决定于比率。需要注意是比率不能小于。亚化学计量比原子浓度明显存在，这是有害薄膜生长。当过剩与发生反应形成水或可能在薄膜中影响氧化钼薄膜，它是电致变色反应结果。下面讨论薄膜沉积中使用比例和。使用来对膜组成和薄膜内结构进步观察。存在个值得关注问题。图显示高分辨率核心区域光谱。少量氟被检测到存在于沉积薄膜表面上。然而要使它彻底清除要使用溅射，检测薄膜内没有存在。薄膜成分要在膜区域进步研究，如图所示。光谱图中，通过无溅射作用清洗，自氧化含量大大减少。由于自旋轨道耦合引起双峰膜转变为和。在时轨道峰分开，并达到理论比例，表明是个单氧化状态。氢气不能用检测到，但莫其完全氧化状态中可以检测到氢存在。氧化钼与插片分析显示和氧化态是存在。此外，由于薄膜透明性......”。

2、“.....,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,€,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,毕业论文外文资料翻译题目合成薄膜学院化学化工学院专业材料化学班级材化学生胡芳学号指导教师薄其兵二〇二年三月十七日合成薄膜†,†,†,†,‡,††‡气变换反应。本实验是合成纯相未来研究模型催化剂层薄膜。下面我们介绍个两步合成方法。首先，采用等离子体增强化学气相沉积法在混合物中使密集氧化钼薄膜沉积在硅片上。在这种化学反应中是很独特，以前含钼化合物反应是用或，来化学气相沉积。用参数来描述氧化物增长速度和质量。使用形成氧化物将产生在更广泛承印物上。薄膜通过催化条件转化为相。使用套分析技术可将整个过程中膜组成和结构演变进行了量化。试验氧化氮合成在混合在个电容耦合系统中使氧化钼薄膜沉积。采用类似反应化学方法，用类似气体混合物，已成功地应用于合成电致变色薄膜。钼六氟化硫,分解容易......”。

3、“.....为了解决这问题，我毕业论文外文资料翻译题目合成薄膜学院化学化工学院专业材料化学班级材化学生胡芳学号指导教师薄其兵二〇二年三月十七日合成薄膜†,†,†,†,‡,††‡,,摘要使用两步合成工艺制备化学计量比薄膜。在氢气，氧气氛围下采用等离子体增强气象化学法首先生成密集氧化钼薄膜。审查沉积速率和质量方面工作参数依赖。氧化膜厚度是纳米，在和气氛中，采用程序升温反应后生成钼硬质合金。用射线衍射线测得，在甲烷和氢气混条件下，进步观察。存在个值得关注问题。图显示高分辨率核心区域光谱。少量氟被检测到存在于沉积薄膜表面上。然而要使它彻底清除要使用溅射，检测薄膜内没有存在。薄膜成分要在膜区域进步研究，如图所示。光谱图中，通过无溅射作用清洗，自氧化含量大大减少。由于自旋轨道耦合引起双峰膜转变为和。在时轨道峰分开，并达到理论比例，表明是个单氧化状态。氢气不能用检测到，但莫其完全氧化状态中可以检测到氢存在。氧化钼与插片分析显示和氧化态是存在。此外，由于薄膜透明性......”。

4、“.....本实验是合成纯相未来研究模型催化剂层薄膜。下面我们介绍个两步合成方法。首先，采用等离子体增强化学气相沉积法在混合物中使密集氧化钼薄膜沉积在硅片上。在这种化学反应中是很独特，以前含钼化合物反应是用或，来化学气相沉积。用参数来描述氧化物增长速度和质量。使用形成氧化物将产生在更广泛承印物上。薄膜通过催化条件转化为相。使用套分析技术可将整个过程中膜组成和结构演变进行了量化。试验氧化氮合成在混合在个电容耦合系统中使氧化钼薄膜沉积。采用类似反应化学方法，用类似气体混合物，已成功地应用于合成电致变色薄膜。钼六氟化硫,分解容易，但是反应过程中产生氟自由基蚀刻膜是可逆。为了解决这问题，我们添加了氢高频电子流来除去氟原子形成。还提供氧气过量，以形成充分氧化膜。这里描述所有方法是在常温下进行，并且电压固定在。使用校准针阀控制生成，而电子质量流量控制器控制氧气和氢气流速。该反应沉积压力范围为−毫托取决于机械泵爱德华兹，控制。渗碳渗碳过程中进行在温度控制......”。

5、“.....过程来验证初步研究通过条件。约粉末放在坩埚中通入空气在下煅烧，个小时可脱附任何水分气体。然后把空气流量调到原来。速度在混合在总流量，温度从分钟到分钟，并煅烧小时。渗碳后，密封样品冷却至室温，这也有助于钝化硬质合金前暴露在空气中流动。氧化膜被转化成钼硬质合金使用方法。描述椭偏光谱,被用来确定氧化膜厚度和折射率。在处折射指数范围内收集数据测量角度为在。射线衍射仪,进行射线源确定使用分钟扫描速度与薄膜长度为为。射线光电子能谱,进行用铝射线源。分析室基压，并结合国家高分辨率光谱扫描时间秒。样品分析进行离子溅射处理，溅射时间为分钟，这被是消除不定型碳所需最小时间。薄膜形貌和表面粗糙度用场发射扫描电子显微镜，和原子力显微镜,来观察。结果与讨论氧化钼合成在这项工作中观察到相同在以前在里用法合成。沉积速率用第次实验流量。优化速度和质量重要价值要靠控制其合作试剂和之间比率。图显示了这些参数对沉积速率和折射率相互影响关系。首先，请注意，在所有实验中提供过剩氧气......”。

6、“.....渗碳后生成基本硅衬底薄膜。用射线光电子能谱检测薄膜无杂质，此时是个单氧化状态。用显微镜观察发现，沉积氧化膜是没有什么特征，而碳化物薄膜是个复杂纳米结构。关键词薄膜硬质合金氧化物等离子体增强化学气相沉积催化剂介绍碳化钼是种在各种领域有很多潜在应用多用途材料。碳化钼具有类似于铂族金属催化性能，利用这种催化性能，并在过去几十年中广泛用于氨合成，合成各种烃，水煤气纸杯，制氢，酒精合成。制作薄膜过程中，过渡金属碳化物高硬度和热稳定性使他们合成耐磨材料。最近研究都集中在碳化钼光电特性范围内应用，包括镜子，渗透膜，互连，和电子场发射我们目是用价格低廉材料替代铂族金属来表面氢态度。从这里可以看出，对于忠诚需求提高比预期更受限制。通常，我们称个人忠诚是因为他遍又遍购买相同品牌，而不考虑那些替代品。当然，有些人反对说，这不定是品牌忠诚唯定义。虽然，忠诚趋向于被简单定义称重复性购买，但是卖主通常没有多大能力在这些变量上努力来影响消费者购买行为......”。

7、“.....可能是唯可视东西，例如在垄断市场环境中它也可能是消费者简单消费习惯，重复消费者行为阻力最小路径抑或是，品牌忠诚更是不同结果而不是单选择，特别是当所有品牌都是同样成分，相似价格，消费在同意水平时候，这样话，对消费者来说，选择哪样品牌真无所谓，因为他们获得了同样利益。目前，销售经理面临最紧要问题是，日益下降品牌忠诚。研究表明，单纯忠诚客户购买很少占有所有消费者购买份额中。更重要是，它表明相比较而言，纯粹忠诚客户比多品牌忠诚客户购买要少，况且，纯粹忠诚客户随着时间推移在减少。现在，很多顾客都有许多他们很喜欢品牌。研究表明，许多品牌不存在忠诚客户，而且拥有少量忠诚客户品牌忠诚客户人数也在下降，这是因为这些营销组织和品牌对消费者不够忠诚。卖主希望客户对品牌忠诚，但是他们对客户却不够忠诚。造成忠诚度降低原因主要有这么三个消费者越来越想寻求变化，想尝试不同品牌和产品厌恶门槛降低消费者想从老套路中跳出来这些对品牌忠诚产生了负面影响。产品质量已经达到了种水平，在这种水平之下......”。

8、“.....因为，转换品牌时质量问题已经不是个担心方面了。许多品牌仍然把自己定位在提供基本质量服务和降低风险上，这已经不试用新代消费者，相比于老代消费者，品牌对新代消费者有更多意义。下面这部分每项研究，都试图通过确认消费者特性，购买态度和行为来解释品牌忠诚。其焦点就是确定影响消费者品牌忠诚度影响因素，主要探究了品牌忠诚和购买行为之间关系。这项研究基础是，既然到周岁群体较其他群体而言，通常来说是不太率为纳米分钟，下降比例略有增加图。可以采取折射率测量薄膜密度，它被证明它与氢含量相关。在处折射率值基本保持不变，而这值之间是薄膜竹篙折射率，此时提供是过剩。图。图表氧化钼增长率左轴和折射率右关系比值。渗碳相比之下，速度和质量都决定于比率。需要注意是比率不能小于。亚化学计量比原子浓度明显存在，这是有害薄膜生长。当过剩与发生反应形成水或可能在薄膜中影响氧化钼薄膜，它是电致变色反应结果。下面讨论薄膜沉积中使用比例和......”。

9、“.....存在个值得关注问题。图显示高分辨率核心区域光谱。少量氟被检测到存在于沉积薄膜表面上。然而要使它彻底清除要使用溅射，检测薄膜内没有存在。薄膜成分要在膜区域进步研究，如图所示。光谱图中，通过无溅射作用清洗，自氧化含量大大减少。由于自旋轨道耦合引起双峰膜转变为和。在时轨道峰分开，并达到理论比例，表明是个单氧化状态。氢气不能用检测到，但莫其完全氧化状态中可以检测到氢存在。氧化钼与插片分析显示和氧化态是存在。此外，由于薄膜透明性，我们可以检测氧,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,€,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,毕业论文外文资料翻译题目合成薄膜学院化学化工学院专业材料化学班级材化学生胡芳学号指导教师薄其兵二〇二年三月十七日合成薄膜†,†,†,†,‡,††‡气变换反应。本实验是合成纯相未来研究模型催化剂层薄膜。下面我们介绍个两步合成方法。首先......”。