1、“.....并由北京化学试剂研究所承担攻关任纯试剂的研制起步于世纪年代中期,年由北京化学试剂研究所在国内率先研制成功适合中小规模集成电路技术用的种级试剂。 随着集成电路集成度的不断提高,对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗粒的控制越来越及以上档次的产品则全部依赖进口。 进口产品的主要来源有日本韩国美国等国家及我国的台湾地区。 表我国目前电子化学品进口量和国产产品市场占有率产品国产量进口量国产产品市场占有率超净高纯试剂吨吨我国超净高是类似的,需求的超净高纯试剂也要几万吨。 在市场供应方面,目前级超净高纯试剂已经全部实现国产化,在更高档次的超净高纯试剂供应方面,目前绝大部分需要从其他国家或地区进口......”。
2、“..... 此外,随着国内平板显示器大发展,上广电产能将达到月,京东方产能将达到月,二厂三厂建成后将达万枚月。 工艺与扩大,年我国市场已达亿元。 年年间,平均增长率。 目前国内英寸英寸毫米生产线条,英寸线条,占国内条生产线总数的,产能已占全国的,英寸以上高端生产线已开始成为国内芯片制造业主体。 按十二五必须依赖进口,超净高纯试剂工艺先进技术如气体吸收离子交换膜处理技术等的应用要达到国外的先进水平也有定的差距,这也导致真正要实现超净高纯试剂的工业化规模生产存在较大的差距。 我国半导体市场规模在不断产业化技术还有待进步的完善......”。
3、“.....相关分析测试方法的研究也有了较大的突破,但总体上仍然受支撑条件落后配套设施基础差等客观因素的制约,关键的仪器设备包括容器等必产业化技术还有待进步的完善。 部分产品的产业化技术也将能够形成规模化生产,相关分析测试方法的研究也有了较大的突破,但总体上仍然受支撑条件落后配套设施基础差等客观因素的制约,关键的仪器设备包括容器等必须依赖进口,超净高纯试剂工艺先进技术如气体吸收离子交换膜处理技术等的应用要达到国外的先进水平也有定的差距,这也导致真正要实现超净高纯试剂的工业化规模生产存在较大的差距。 我国半导体市场规模在不断扩大,年我国市场已达亿元。 年年间,平均增长率。 目前国内英寸英寸毫米生产线条......”。
4、“.....占国内条生产线总数的,产能已占全国的,英寸以上高端生产线已开始成为国内芯片制造业主体。 按十二五计划新建的生产线对于超净高纯试剂耗用量将有较大幅度增长。 此外,随着国内平板显示器大发展,上广电产能将达到月,京东方产能将达到月,二厂三厂建成后将达万枚月。 工艺与是类似的,需求的超净高纯试剂也要几万吨。 年年间,平均增长率。 目前国内英寸英寸毫米生产线条,英寸线条,占国内条生产线总数的,产能已占全国的,英寸以上高端生产线已开始成为国内芯片制造业主体。 按十二五计划新建的生产线对于超净高纯试剂耗用量将有较大幅度增长。 此外,随着国内平板显示器大发展,上广电产能将达到月,京东方产能将达到月......”。
5、“..... 工艺与是类似的,需求的超净高纯试剂也要几万吨。 在市场供应方面,目前级超净高纯试剂已经全部实现国产化,在更高档次的超净高纯试剂供应方面,目前绝大部分需要从其他国家或地区进口,标准水平及以上档次的产品则全部依赖进口。 进口产品的主要来源有日本韩国美国等国家及我国的台湾地区。 表我国目前电子化学品进口量和国产产品市场占有率产品国产量进口量国产产品市场占有率超净高纯试剂吨吨我国超净高纯试剂的研制起步于世纪年代中期,年由北京化学试剂研究所在国内率先研制成功适合中小规模集成电路技术用的种级试剂。 随着集成电路集成度的不断提高,对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗粒的控制越来越严......”。
6、“..... 为了满足我国集成电路发展的需求,国家自六五开始至八五,将超净高纯试剂的研究开发列入了重点科技攻关计划,并由北京化学试剂研究所承担攻关任务。 到目前为止,北京化学试剂研究所已相继推出了Ⅰ级Ⅱ级和Ⅲ级超净高纯试剂,其中Ⅲ级超净高纯试剂达到国际标准的水平,适用于工艺技术的加工制作,并在九五末期形成了年的中试规模。 目前北京化学试剂研究所正在进行用于工艺技术的Ⅳ级超净高纯试剂的研究开发。 十五期间,国家科技部将用超净高纯试剂研究课题列入了超大规模集成电路配套材料重大专项计划之中,由北京化学试剂研究所上海华谊集团公司等单位承担......”。
7、“.....关键品种的制备工艺已趋完善,配套支撑条件基本上可以满足研发的要求,颗粒金属杂质阴离子及等分析测试方法的研究也取得了系列成果,为十二五的产业化技致占,其中有机类化学品的需求量在微电子化学品中占总体积的以上,市场需求量相当可观。 在超净高纯试剂的发展方面,与微电子技术另重要材料光刻胶相似,不同线宽的芯片必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗。 超净高纯试剂的质量关键在于控制其所含的金属离子的多少和试剂中尘埃颗粒的含量,对于线宽较小的超大规模集成电路,几个金属离子或灰尘就足以报废整个电路。 年,国际半导体设备与材料组织制定了国际统的超净高纯试剂标准,如表所示。 目前......”。
8、“..... 随着集成电路制作要求的提高,对工艺中所需的液体化学品纯度的要求也不断提高。 技术趋势上看,满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之。 表工艺化学品国际标准等级标准金属杂质控制粒径颗粒个适应线宽范围可以看出,超净高纯试剂制备的关键在于控制并达到其所要求的杂质含量和颗粒度。 为使超净高纯试剂的质量达到要求,需从多个方面同时予以保障,包括试剂的提纯包装供应系统及分析方法等。 目前,国际上普遍使用的提纯工艺有十余种,它们适用于不同成分不同要求的超净高纯试剂的生产,例如,蒸馏精馏连续精馏盐熔精馏共沸精馏亚沸腾蒸馏等温蒸馏减压蒸馏升华化学处理气体吸收等......”。
9、“.....所以超净高纯试剂的包装及供应方式是超净高纯试剂使用的重要环。 特别是颗粒控制的相关技术,它贯穿于超净高纯试剂生产运输的始终,包括了环境控制工艺控制成品包装控制等各个环节。 国内外超净高纯试剂生产技术发展现状国外世纪年代便开始生产电子工业用试剂,并为微电子加工技术的发展而不断开发新的产品。 到目前为止,在国际上以德国公司的产量及所占市场份额为最大,其次为美国公司及日本的关东株式会社,另外还有美国的公司英国的公司前全苏化学试剂和高纯物质研究所三菱瓦斯化学伊期曼化学公司公司公司化学品公司日本化学工业公司及德山公司等。 近年来,新加坡台湾地区也相继建立了级的超净高纯试剂生产基地......”。
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