1、“.....梁瑞林。半导体器件新工艺。北京科学出版社，。，具有荷质比为的其它离子的偏转量为将前面的的表达式江苏信息职业技术学院毕业设计论文代入，得讨论为屏蔽荷质比为的离子，光阑半径必须满足若固定，则具有下列荷质比的离子可被屏蔽或而满足下列荷质比的离子均可通过光阑以上各式可用于评价分析磁体的分辨本领参考文献。磁质量分析器图磁质量分析器离子注入工艺及设备研究为向心力，使离子作圆周运动，半径为从上式可知，满足荷质比的离子可通过光阑。或者对于给定的具有荷质比为的离子，可通过调节磁场使之满足下式，从而使该种离子通过光阑，其余的离子则不能通过光阑，由此达到分选离子的目的。另外，若固定和，通过连续改变，可使具有不同荷质比的离子依次通过光阑，测量这些不同荷质比的离子束流的强度，可得到入射离子束的质谱分布。加速聚焦器为了保证注入的离子能够进入，并且具有定的射程，离子的能量必须满足定的要求......”。

2、“.....离子还需要进行电场加速。完成加速任务的是由系列被介质隔离的加速电极组成管状加速器。离子束进入加速器后，经过这些电极的连续加速，能量增大很多。与加速器连接的还有聚焦器，聚焦器就是电磁透镜，它的任务是将离子束聚集起来，使得在传输离子时能有较高的效益，聚焦好的离子束才能确保注入剂量的均匀性。扫描系统离子束是条直径约的线状高速离子流，必须通过扫描覆盖整个注入区。扫描方式有固定，移动离子束固定离子束，移动。离子注入机的扫描系统有电子扫描机械扫描混合扫描以及平行扫描系统，目前最常用的是静电扫描系统。静电扫描系统由两组平行的静电偏转板组成，组完成横向偏转，另组完成纵向偏转。在平行电极板上施加电场，正离子就会向电压较低的电极板侧偏转，改变电压大小就可以改变离子束的偏转角度。静电扫描系统使离子流每秒钟江苏信息职业技术学院毕业设计论文横向移动多次，纵向移动移动次。静电扫描过程中，固定不动，大大降低了污染几率，而且由于带负电的电子和中性离子不会发生同样的偏转，这样就可以避免被掺入到当中。终端系统终端系统就是接受离子注入的地方......”。

3、“.....离子轰击导致温度升高，冷却系统要对其进行降温，防止出现由于高温而引起的问题，有气体冷却和橡胶冷却两种技术。冷却系统集成在载具上，载具有多片型和单片型两种。离子注入的是带正电荷的离子，注入时部分正电荷会聚集在表面，对注入离子产生排斥作用，使入对颗粒污染非常敏感，表面的颗粒会阻碍离子束的注入，大电流的注入会产生更多颗粒，过后的清洗虽然可以除掉颗粒但留下的看不见的遮挡是个不易发现的致命的缺陷。所以我们要尽可能地避免这种情况的发生。多数颗粒都是由于不正确的操作圆片不正确的抽真空步骤夹紧步骤充气时使用未过滤的气体以及强束流机的转盘造成的，因此在工艺加工过程中要规范谨慎参考文献。离子注入工艺及设备研究第六章离子注入质量检测颗粒污染测量检测表面的颗粒数，颗粒会造成掺杂的空洞。颗粒的可能来源有电极放电机械移动过程中的外包装注入机未清洁干净温度过高造成光刻胶脱落背面的冷却橡胶处理过程产生的颗粒。剂量控制掺杂剂量不合适导致方块电阻偏高或偏低。掺杂剂量不合适的原因有工艺流程离子束电流检测不够精确离子束中混入电子，造成计数器计算离子数量的，导致掺杂剂量过大退火问题......”。

4、“.....高温会造成杂质再分布，增加结深以及横向掺杂效应沟道效应影响离子的分布。江苏信息职业技术学院毕业设计论文第七章总结离子注入技术是近几十年以来在国际上得到蓬勃发展和广泛应用的种材料表面改性的高新技术。随着工艺技术的不断发展,离子注入机的不断更新,该技术将在半导体工艺中发挥越来越重要的作用。离子注入法掺杂相比扩散法掺杂来说，它的加工温度低容易制作浅结均匀的大面积注入杂质易于自动化等优点。目前，离子注入法已成为超大规模集成电路制造中不可缺少的掺杂工艺。离子注入是作为种半导体材料的掺杂技术发展起来的，它所取得的成功是其优越性的最好例证。低温掺杂精确的剂量控制掩蔽容易均匀性好这些优点，使得经离子注入掺杂所制成的几十种半导体器件和集成电路具有速度快功耗低稳定性好成品率高等特点。对于大规模超大规模集成电路来说，离子注入更是种理想的掺杂工艺。如前所述，离子注入层是极薄的，同时，离子束的直进性保证注入的离子几乎是垂直地向内掺杂，横向扩散极其微小，这样就有可能使电路的线条更加纤细，线条间距进步缩短，从而大大提高集成度。此外,离子注入技术的高精度和高均匀性......”。

5、“.....随着工艺上和理论上的日益完善，离子注入已经成为半导体器件和集成电路生产的关键工艺之。在制造半导体器件和集成电路的生产线上，已经广泛地配备了离子注入机。离子注入工艺及设备研究致谢本论文是在我的导师刘锡锋老师的亲切关怀和悉心指导下完成的。他严肃的科学态度，严谨的治学精神，精益求精的工作作风，深深地感染和激励着我。刘老师不仅在学业上给我以精心指导，同时还在思想生活上给我以无微不至的关怀，在此谨向刘老师致以诚挚的谢意和崇高的敬意。我还要感谢在起愉快的度过毕业论文小组的同学们，正是由于你们的帮助和支持，我才能克服个个的困难和疑惑，直至本文的顺利完成。在论文即将完成之际，我的心情无法平静，从开始进入课题到论文的顺利完成，有多少可敬的师长同学朋友给了我无言的帮助，在这里请接受我诚挚的谢意,最后我还要感谢培养我长大含辛茹苦的父母，谢谢你们,最后，再次对关心帮助我的老师和同学表示衷心地感谢,江苏信息职业技术学院毕业设计论文参考文献张渊主编，半导体制造工艺。北京机械工业出版社，。半导体制造技术。韩子束的入射方向偏转离子束流半径增大，导致掺杂不均匀，难以控制电荷积累还会损害表面氧化层......”。

6、“.....甚，在序列模式下仿真出望远镜，只是对马卡望远镜的个简单模拟。图透镜口径设置序列模式与非序列模式转换将望远镜从序列模式下转入非序列模式，它可以减少参数的设置。打开个设计好的镜头，将所有面都重新放在面和面之间，面也不能有数据，都将下移。然后将所有透镜口径加大，点击中的透镜口径加工余量设置，可直接设置大小或百分比，如图所示。再将所有透镜口径固定，因为我们优化系统时，所有透镜半口径是自动跟随有效光束尺寸变化的，在任何行的栏点右键，都会发现此面上口径的求解类型为自动，我们在转非序列模式前，需将这些口径固定住，即设置为。此时我们看到所有行的栏下都将出现个字母，这个表示孔径，如图所示。图固定半口径图转换面数选择做完准备工作后，选择,如图所示，将弹出对话框如图所示。选择从第面到最后面，这样会将整个镜头组转为非序列元件，另外注意勾选图上红框内选项，表示直接转为纯非序列模式分析。点击确定后，看到模式会自动切换为非序列模式。图序列模式转换方式非序列模式下仿真直接在非序列模式下进行仿真。在非序列模式下新建个编辑窗口，按设计所需用键添加几个面，在中选择镜子类型，直接设置参数，如下图所示......”。

7、“.....即模拟激光器，还有个镜筒。下面就需要对表格中参数设定了，先对各参数进行个简单的介绍第行中的是指物体的空间位置指的是它们关于坐标轴的倾斜角指控制有多少条光线在图中显示指分析光线数般数值会很大为激光器的束腰直径。第二行中的和指弯月镜的两个面的曲率半径般情况下两面的曲率半径相等指的是非球面二次曲面系数，其值为则表示球面，到之间表示椭球面，表示抛物面，小于的为双曲面表示通光直径软件。运用之前所了解的理论知识先在序列模式下对卡塞格林天线系统进行建模仿真，熟悉其仿真过程中各参数的变化对系统的影响。然后再在非序列模式下，加入高斯光源后对马卡望远镜进行模拟并分析各参数，不断调整激光器位置，使之达到最大发射功率。根据仿真结果进行实物验证，测量离轴系统光功率，认识离轴发射相对于轴上发射的优势，并进行分析理论与实际差距原因。通过此次研究，我们所模拟的马卡望远镜基本满足课题指标要求。因此，能确保其基本功能的实现。在研究课题的过程中还是遇到不少问题，经过刻苦钻研都解决了，但是由于时间和条件的限制，我们做的还不够精细，有些方面还需要作进步的研究。通过整个课题的研究......”。

8、“.....离轴发射对激光器光功率具有重要意义。致谢本课题是在的精心指导下完成的。柯老师严谨求实的工作作风和治学精神使我受益菲浅。在毕业设计过程中，柯老师认真指导，多方面支持，给出了许多很好的指导意见。在此谨向他表示衷心的感谢,同时，在毕业设计过程中，还得到的大力支持与帮助，每当我遇到疑难问题，他们都耐心的帮我分析解决，在此对他们表示衷心的感谢,最后要感谢的是我的家人，他们给予了我无微不至的关心和照顾，使我能够顺利完成学业。感谢所有给予我关心和帮助的朋友们,参考文献柯熙政，席晓莉无线激光力降低。梁瑞林。半导体器件新工艺。北京科学出版社，。，具有荷质比为的其它离子的偏转量为将前面的的表达式江苏信息职业技术学院毕业设计论文代入，得讨论为屏蔽荷质比为的离子，光阑半径必须满足若固定......”。

9、“.....磁质量分析器图磁质量分析器离子注入工艺及设备研究为向心力，使离子作圆周运动，半径为从上式可知，满足荷质比的离子可通过光阑。或者对于给定的具有荷质比为的离子，可通过调节磁场使之满足下式，从而使该种离子通过光阑，其余的离子则不能通过光阑，由此达到分选离子的目的。另外，若固定和，通过连续改变，可使具有不同荷质比的离子依次通过光阑，测量这些不同荷质比的离子束流的强度，可得到入射离子束的质谱分布。加速聚焦器为了保证注入的离子能够进入，并且具有定的射程，离子的能量必须满足定的要求，所以，离子还需要进行电场加速。完成加速任务的是由系列被介质隔离的加速电极组成管状加速器。离子束进入加速器后，经过这些电极的连续加速，能量增大很多。与加速器连接的还有聚焦器，聚焦器就是电磁透镜，它的任务是将离子束聚集起来，使得在传输离子时能有较高的效益，聚焦好的离子束才能确保注入剂量的均匀性。扫描系统离子束是条直径约的线状高速离子流，必须通过扫描覆盖整个注入区。扫描方式有固定，移动离子束固定离子束，移动。离子注入机的扫描系统有电子扫描机械扫描混合扫描以及平行扫描系统，目前最常用的是静电扫描系统......”。