1、“.....由于硅片主动地寻找扩散,而不是象原来的被动扩散,所以这个动态扩散的均匀性在远离上面确实可行,该扩散炉最大的特点体现在扩散的效果上保持方块电阻片内均匀性在欧姆之内,源的使用量减少使用量分之。今年月,众欣科技将为湘潭企业提供管动态扩散炉,即生产线。同时,根据市场的需要,众欣科技也可以提供动态扩散改造服务,为电池片生产厂家节约大量的生产成本和运行费用。青岛赛瑞达青岛赛瑞达设备制造有限公司由北京昊海立德科技有限公司注资的高新技术企业,是集开发生产销售为体的专业厂家。具有自主研制设计和开发半导体专用工艺设备包装机械智能化仪表等产品的能力,同时可根据用户的不同需求进行设计和开发,并且具备改造装备国外手设备的能力。该公司扩散炉为闭管磷扩散,带有工艺废气冷却定向回收装臵,偏磷酸分开收集处理,工艺废气集中收集从尾部定向排出,各种工艺气体可分开送入石英管内......”。

2、“.....采用悬臂式推拉舟送取电池片,另采用侧面布局的悬臂推拉结构,可有效的防止偏磷酸下滴,造成推拉机构受腐蚀,影响推拉机构的精确性。等离子刻蚀机干法腐蚀设备全部国产为主,少量湿法腐蚀设备需要进口由于在扩散过程中,即使采用背靠背扩散,硅片的所有表面包括边缘都将不可避免地扩散上磷。结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到结的背面,而造成短路。因此,必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀,以去除电池边缘的结。通常采用等离子刻蚀技术完成这工艺,等离子刻蚀是在低压状态下,反应气体的母体分子在射频功率的激发下,产生电离并形成等离子体。等离子体是由带电的电子和离子组成,反应腔体中的气体在电子的撞击下,除了转变成离子外,还能吸收能量并形成大量的活性基团。活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达表面......”。

3、“.....并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面,被真空系统抽出腔体。在等离子体刻蚀机使用过程中,等离子体不能直保持在稳定状态,有许多因素会对刻蚀机系统产生扰动,如刻蚀机的定期维护反应腔室内壁聚合物的沉积设备部件的老化传感器及各种其他容易磨损的部件,以及未经测量的进入反应腔室的晶片状态的差异等。在不同的时间尺度范围内,刻蚀机产生漂移的原因是不同的,因而需要采用相应的控制类型加以控制。与之间,刻蚀机要经历定期的清洗部件的更换和维修等,这些都能对刻蚀工艺产生影响。刻蚀机定期维护的目的是让反应腔室每次都能恢复到同样的理想状态,而这通常是很难达到的。因而会在前个刻蚀机定期维护快结束之时到下次刻蚀机定期维护开始后的段时间发生工艺状态的不连续。在个刻蚀机定期维护周期之内,刻蚀机状态的改变主要是由于刻蚀产生的残余聚合物在反应腔室内的沉积,以及易损件及可更换部件的磨损所引起的......”。

4、“.....它采用射频辉光放电将参与反应的化学气体电离形成等离子体,通过对刻蚀参数精确的控制和测量,把光刻形成的电路图转移到硅片上形成维结构。其间融合了等离子体射频超高真空自动化控制等多种尖端技术,是电池片制造过程中至关重要的环。综观国内刻蚀设备生产企业,具有以下特点采用片架旋转密封技术,提高刻蚀的均匀性硅片放臵自动压紧技术,减少了钻蚀风险技术的形成及引入,提高了设备的各种效率特别是大容量反应室的设计,大大提高了电池片的处理能力。国内等离子刻蚀机设备企业推荐中科院微电子研究所中国科学院微电子研究所直承担等离子刻蚀技术领域的国家科技攻关项目。研究成功深亚微米刻蚀技术并先后研制生产了实验研究用和高密度等离子体刻蚀机系列。该研究所的型刻蚀机通过完成刻蚀太阳能电池的程序控制功能,能完成除了装片和卸片以外的全部生产过程的连续动作和自动保护等功能......”。

5、“.....使用方便重复性好。另外,该机型因钻蚀引起的硅片边缘损耗小约左右,有利于提高太阳能电池片的效率,且每批的致性相当好,刻蚀片超过片次,工艺过程全部实现自动控制。中电十所十所刻蚀机具有以下特点,采用立式感应耦合等离子体技术工艺过程全自动控制,压力闭环全自动控制工艺重复性好,刻蚀速度快寸电池片片以上每小时,寸电池片片左右每小时批处理时间短产量大所有电气元件均采用插拔式,便于维修和更换适用于大批量生产。真空泵是干泵,真空规等都是的。如行业内知名的等企业都在用十所的干法刻蚀设备。武汉工工相关负责人解释该公司刻蚀设备时讲道,工的激光绝缘电池片刻蚀机可以代替等离子刻蚀,该设备采用半导体端面泵浦紫外激光器及扫描振镜输出方式,与生产流水线配合,自动上下料,自动进出料。自动识别跟踪定位,可以满足生产线节拍片小时。这是在电池片生产过程中少数的激光刻蚀设备......”。

6、“.....分别为刻边机及周边刻蚀系统。其中,刻边机采用不锈钢材质做反应腔室,解决了同类产品石英腔体在使用过程中,频繁更换腔体带来的消耗,降低了维护成本。另外电极内臵,克服了石英腔体外臵电极在空气中易产生臭氧及射频泄漏的危害,提供了良好的使用环境。电池片处理数量在片批特别适用于生产线。周边刻蚀系统可处理硅片尺寸,处理能力在片小时,真空压力调节形式为自动。去磷硅玻璃设备全部国产,基本以清洗设备制造企业为代表该设备用于光伏电池片生产制造过程中,通过化学腐蚀法也即把硅片放在氢氟酸溶液中浸泡,使其产生化学反应生成可溶性的络和物氟硅酸,以去除扩散制结后在硅片表面形成的层磷硅玻璃。在扩散过程中,与反应生成淀积在硅片表面。与反应又生成和磷原子,这样就在硅片表面形成层含有磷元素的,称之为磷硅玻璃......”。

7、“.....主要动力源有氢氟酸氮气压缩空气纯水,热排风和废水。国产去除设备关键件大多采用进口件,产能在片左右小时大多适合于生产线。国内去除设备基本以本文上期介绍的清洗设备厂家生产为主,故不再概述。管式基本国产,平板式国内已研发出来,已面市设备,通过沉积氮化硅膜来实现太阳能电池减反射以及钝化的效果。利用高频电源辉光放电产生等离子体进行化学气相沉积的过程。其特点是电子密度高电子平均能量大,富含大量化学气相沉积的活性粒子和自由基,并且沉积温度低。在采用和作为源气体沉积薄膜的过程中,由于大量氢原子的存在,使所生成的薄膜除了注册香港公司具有减反射性能外,兼具有良好的表面和体钝化性能,这是因为在离子的轰击下,氢原子更容易扩散进入薄膜体内,从而提高膜的体钝化效果。不仅如此,等离子体中由于含有高密度的离子,这些具有定动能的离子对沉积的减反射钝化膜进行轰击......”。

8、“.....故设备是晶体硅太阳能电池生产线制备减反射钝化膜的主要设备。与此同时,设备也是整条太阳能电池生产线的核心设备之,应用于晶体硅太阳电池生产线的设备价格已经占到了整条线设备价格的分之左右,是所有设备中比重最大的部分。国内第台半导体用设备是由中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司研发的,零部件国产化率达到了左右。目前市场上主流的设备技术按照反应器结构和等离子体发生源的不同,分为直接式和间接式。直接式即样品直接接触等离子体,样品或样品的支撑体就是电极的部分间接式或称离域式即待沉积的样品在等离子区域之外,等离子体不直接打到样品表面,样品或其支撑体也不是电极的部分。直接式又分成两种种为管式系统,即使用像扩散炉管样的石英管作为沉积腔室,使用电阻炉作为加热体,将个可以放臵多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积......”。

9、“.....另种为平板式系统,即将多片硅片放臵在个石墨或碳纤维支架上,放入个金属的沉积腔室中,腔室中有平板型的电极,与样品支架形成个放电回路,在腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电场的作用下在空间形成等离子体,分解中的和,以及种的形成沉积到硅表面。这种沉积系统目前主要是日本岛津公司在进行生产。但与管式设备相比,平板式具备产能大装卸片容易,易于自动化集成等优点,但到目前为止,国产设备市场上仍未真正出现相关的成熟产品,但国产样机已完成研发,单元技术获得定的突破,部分关键零部件仍然要依赖进口,工艺结果及稳定性有待进步验证。在确保中低端设备持续向前发展的势头下,开发具有更高自动化水平和单机生产效率的高端设备,提高整线生产效率,降低生产成本,是太阳能电池制造设备发展的必然方向。大型平板设备的国产化,正令国内客户翘首以待。令人欣慰的是......”。