1、“.....其光谱谱形的精确控制对发挥其优势具有重要意义。本文选取准分子激光纤光栅的中心波长红移，反射率增加，带宽展宽。预拉力设定准分子激光器输出能量，其它条件不变，改变光纤两端施加的预拉力值，实验设定值为，测试不同预拉力条件下写入光纤光栅的特性差异。从写制过程可看出，预拉力大光栅写入速度快。由图可得，预拉力越大......”。

2、“.....避免过度曝光导致反射光谱饱和展宽不平坦。从写制过程可看出，随着脉冲能量增大，刻写相同反射率光纤光栅所需的曝光时间减少，所能达到的最大反射率增大。由图可得，随着脉冲能量增大，写入光纤光栅的中心波长红移，带宽展宽，同时透射峰顶部出现明对于大规模光纤光栅传感阵列，需要在单根光纤上制作多个具有确定性能的光纤光栅......”。

3、“.....光纤光栅新型器件的制作需要将光纤光栅写在不同的波导结构上，同样需要对光栅写制参数的精确控制，因此，研究光纤光栅写制参数对其性能文章编号引言相位掩模法是制作光纤布拉格光栅最常用的方法，在商业化的大批量生产中，般通过制作大量光纤光栅，从中选取符合设计要求的使用。光纤布拉格光栅写制技术研究论文原稿......”。

4、“.....图就是相位掩模法制作光纤光栅间减少，所能达到的最大反射率增大。由图可得，随着脉冲能量增大，写入光纤光栅的中心波长红移，带宽展宽，同时透射峰顶部出现明显的不平坦并展宽。可见较大能量写制光纤光栅时，写入速度快，较易达到饱和状态，出现这现象的典型特征是透射光谱中透射凹陷的顶端变得不平坦且明显......”。

5、“.....关键词光纤光学光纤光栅制作技术中图分类号文献标识码文章编号引言相位掩模法是制作光纤布拉格光栅最常用的方法，在商业化的大批量生产中，般通过制作大量光纤光栅，从中选取符合设计要求的使用。光纤布拉格光栅写制技术研究论文原稿。确控制制作参数以保证写制光纤光栅的性能符合设计要求......”。

6、“.....同样需要对光栅写制参数的精确控制，因此，研究光纤光栅写制参数对其性能的影响规律具有重要的实用价值。关键词光纤光学光纤光栅制作技术中图分类号文献标识码宽，同时出现各种杂乱的线谱。因此当折射率调制深度较大时，应采用较小能量写制光纤光栅以获得完美的谱形，而且达到所需的反射率后应立即停止曝光，避免过度曝光导致反射光谱饱和展宽不平坦......”。

7、“.....需要在单根光纤上制作多个具有确定性能的光纤光栅，这需要精，。从写制过程可看出，随着脉冲能量增大，刻写相同反射率光纤光栅所需的曝光，余小草，姜文寧，张英，周敏雯，李新碗，陈建平基于紫外光刻的微纳光纤布喇格光栅研究光通信技术......”。

8、“.....得到了写制参数对光纤光栅光谱特性的影响规律。从写制过程看，曝光能量越大，写入速度越快预拉力越大，写入速度越快。从写制光纤光栅的光谱特性看，曝光能量越大，曝光时间越长，中心波长红移，带宽展的中心波长越小，两种不同预拉力下写制的光纤光栅中心波长相差......”。

9、“.....反射率高，带宽大，而的还没有达到最高反射率。因此在制作光纤光栅时，要精确控制光纤两端施加的预拉力。分析其原因在于同样的光纤长度受不同大小的预拉力作用时，大的预拉力会获的不平坦并展宽。光纤布拉格光栅写制技术研究论文原稿。如图所示，左侧第个最小的透射凹陷为曝光个脉冲得到的光纤光栅透射光谱，每曝光个脉冲测试次透射光谱......”。