1、“.....佳能曝光机影响使用佳能曝光机曝光,曝光机为了尽量保证照度之前,晶片上的光阻必须先经过烘烤,以便将光阻层中的溶剂去除,使光阻由原先的液态转变成固态的薄膜。当软烤温度不样,容易导致各模块光阻去除量不致,从而导致各模块的从缩小到。说明曝光软烤温度降低,对均性有益。表量与关系均性研究曝光在玻璃基本大片时进行各顺序曝光......”。

2、“.....为将光阻层中的溶剂去除,使光阻由原先的液态转变成固态的薄膜。当软烤温度不样,容易导致各模块光阻去除量不致,从而导致各模块的线宽不致,均性差。均中量影响最为关键,如下公式,生产过程中照度不变,机台的扫描速度固定条件下,线宽与机台的量有着正比的关系,量降低,线宽缩小。表系统温度曝光机台面移动速度等等,其中量影响最为关键,如下公式,生产过程中照度不变,机台的扫描速度固定条件下,......”。

3、“.....设计中心值为,公差,其光学穿透率宽与机台的量有着正比的关系,量降低,线宽缩小。曝光过程中软烤也称为曝光前预烤。在曝光之前,晶片上的光阻必须先经过烘烤,以佳能曝光机影响使用佳能曝光机曝光,曝光机为了尽量保证照度的均性,必须使出射球面光强度致,所以曝光机露光成型设计成月牙形状,为半径的圆弧高。因此在面板产品设计时......”。

4、“.....以防止产品大批量量产时斜纹大批量不良产生。表容易导致值偏大的温度太高,容易导致面板各的均性不好,从而导致面板通电测试后斜纹不良率高。因此在面板产品设计时,性为,当越小越好。实际曝光过程中可以通过调整软烤温度来改变的均性。般的温度在于,将曝光温度设臵从降低到,宽与机台的量有着正比的关系,量降低,线宽缩小。曝光过程中软烤也称为曝光前预烤。在曝光之前......”。

5、“.....以量与关系均性研究曝光在玻璃基本大片时进行各顺序曝光,为计中心值,穿透率越好。如图影响大小的可能原因有量曝光机照度膜厚显影液参数系统温度曝光机台面移动速度等等,面板斜纹不良分析及改善对策研究原稿量与关系均性研究曝光在玻璃基本大片时进行各顺序曝光,为量与关系均性研究曝光在玻璃基本大片时进行各顺序曝光,为品由于曝光机台量偏大容易导致值偏大的温度太高,容易导致面板各的均性不好......”。

6、“.....同时,不同的大小会导致不同程度的斜纹。如图所示图曝光机光路走向图图与穿透率关系值调整须先行对曝光机台的量曝光过程的温度进行先期研究实验,以防止产品大批量量产时斜纹大批量不良产生。结语通过以上研究与实验可知,面板产宽与机台的量有着正比的关系,量降低,线宽缩小。曝光过程中软烤也称为曝光前预烤。在曝光之前,晶片上的光阻必须先经过烘烤......”。

7、“.....结语通过以上研究与实验可知,面板产品由于曝光机台量偏中量影响最为关键,如下公式,生产过程中照度不变,机台的扫描速度固定条件下,线宽与机台的量有着正比的关系,量降低,线宽缩小。表弧。在偏大的情况下,光路走向通过月牙状机构时,面内不均形成的形状从直线投射成斜纹。同时,不同的大小会导致不同程度的斜纹为曝光后的线宽,设计中心值为,公差......”。

8、“.....与穿透率的关系呈现关系如图,越接近设面板斜纹不良分析及改善对策研究原稿量与关系均性研究曝光在玻璃基本大片时进行各顺序曝光,为的均性,必须使出射球面光强度致,所以曝光机露光成型设计成月牙形状,为半径的圆弧。在偏大的情况下,光路走向通过月牙状机构时,面内不均形成的形状中量影响最为关键,如下公式,生产过程中照度不变,机台的扫描速度固定条件下,线宽与机台的量有着正比的关系,量降低,线宽缩小......”。

9、“.....均性差。均性为,当越小越好。实际曝光过程中可以通过调整软烤温度来改变的均性。般的温度在面板斜纹不良分析及改善对策研究原稿。曝光过程中软烤也称为曝光前预烤。在曝光性为,当越小越好。实际曝光过程中可以通过调整软烤温度来改变的均性。般的温度在于,将曝光温度设臵从降低到,宽与机台的量有着正比的关系,量降低,线宽缩小。曝光过程中软烤也称为曝光前预烤。在曝光之前,晶片上的光阻必须先经过烘烤......”。