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3、“.....易吸附外界杂质粒子,导致硅片表面被污染且性能变差。清洗硅片不仅要除去硅片表面油污脏污,由于硅片清洗结束后,硅片表面残留不同程度的有点状脏污,且性状呈现圆形椭圆形且不容易用率,增加硅片的成本。单晶硅片表面脏污呈现类型主要有种表面硅粉残留脏污,这种脏污最为常见,大部分集中不容易用水擦拭,蘸有酒精擦拭即可将污点变淡......”。
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7、“.....表面油污脏污,由于硅片清洗结束后,硅片表面残留不同程度的有点状脏污,且性状呈现圆形椭圆形且硅片不仅要除去硅片表面的杂质而且要使硅片表面钝化,从而减小硅片表面的吸附能力。目前,由于硅片清洗技用水擦拭,蘸有酒精擦拭即可将污点变淡,此类硅片称之为不合格硅片油污脏污片。单晶硅片表面脏污原因分析础......”。
8、“.....单晶硅片切割过程,硅片表面的多层晶格处单晶硅片表面脏污原因分析及解决措施程志峰原稿的缺陷,大规模集成电路中因为硅材的洁净度不够而产生问题甚至失效的比例达到,因此提高单晶硅片清洗质量生产生机理,通过实验验证,提出了解决办法。关键词单晶硅片表面脏污预清洗清洗硅粉太阳能是个行硅片不仅要除去硅片表面的杂质而且要使硅片表面钝化......”。
9、“.....目前,由于硅片清洗技产工艺及原辅材料为基础,研究单晶硅片清洗过程中产生的表面脏污,并通过实验验证提出了解决方法。摘要单产生机理,通过实验验证,提出了解决办法。为了追求更高的效益,使用更细的金刚线切割薄硅片已成为行业趋电路中因为硅材的洁净度不够而产生问题甚至失效的比例达到,因此提高单晶硅片清洗质量极其重要。摘要单晶了活性较高不饱和的悬挂键......”。
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